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一种透明导电层的制造方法

  • 专利类型：
    发明专利
  • 发  明  人：
    邱博文 林永昌 廖家翎 胡国仁 陈嘉祥 江明峰
  • 申  请  人：
    友达光电股份有限公司
  • 地        址：
    中国台湾新竹科学工业园区新竹市力 行二路1 号
  • 状        态：
    公开
  • 文件大小：
    316 KB
  • 公  布  号：
    CN 102568657 A
  • 公  布  日：
    2012.07.11
  • 申  请  号：
    201210041075.5
  • 申  请  日：
    2012.02.21
  • 代理机构：
    北京律诚同业知识产权代理 有限公司 11006
  • 代  理  人：
    曾红
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专利介绍


本发明提供一种透明导电层的制造方法，包括：形成一金属层；沉积至少一层石墨烯层于金属层上；刻蚀石墨烯层形成网格状图案；提供一基板；转移石墨烯层于基板上。采用本发明可以在提升导电层的穿透率的同时降低阻值。

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