您的位置：首页 > 专利查询 > G 物理    

用于测量多层膜厚度的方法和设备

  • 专利类型：
    发明专利
  • 发  明  人：
    西田和史
  • 申  请  人：
    横河电机株式会社
  • 地        址：
    日本东京
  • 状        态：
    公开
  • 文件大小：
    438 KB
  • 公  布  号：
    CN 102052904 A
  • 公  布  日：
    2011.05.11
  • 申  请  号：
    201010529517.1
  • 申  请  日：
    2010.10.28
  • 代理机构：
    北京天昊联合知识产权代理 有限公司 11112
  • 代  理  人：
    陈源 张天舒
  • 分享这到：

专利介绍


本发明提供一种根据多层膜的每一层的光学厚度对多层膜的每一层的物理厚度进行测量的方法。该方法包括：(a) 设定层的折射率；(b) 使用折射率计算系数矩阵；(c) 将光提供到多层膜以便根据由多层膜反射的光来对光学厚度进行测量；以及(d) 根据光学厚度和系数矩阵计算物理厚度。

专利下载

[ 下载地址3 ]
Powered by GB99.CN   © 2023-2025