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包含氮化硼粒子的光学基底

  • 专利类型：
    发明专利
  • 发  明  人：
    山田正子 马修·D·巴茨 莫伊特里伊·辛哈 萨拉·E·格诺维
  • 申  请  人：
    莫门蒂夫性能材料股份有限公司
  • 地        址：
    美国康涅狄格州
  • 状        态：
    公开
  • 文件大小：
    1228 KB
  • 公  布  号：
    101414014
  • 公  布  日：
    2009-04-22
  • 申  请  号：
    200710085624.8
  • 申  请  日：
    2007-03-01
  • 代理机构：
    北京市柳沈律师事务所
  • 代  理  人：
    封新琴 巫肖南
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专利介绍


本发明公开了诸如膜和片的光学基底及制备光学基底的方法。该光学基底包含至少一个层,该层含有玻璃或聚合物材料以及氮化硼粒子。该氮化硼粒子具有必需的光学性能以及优异的导热性,从而将应用中,例如液晶显示器、投影显示器、交通信号和照明标志产生的过热而引起的裂缝、波纹和皱褶的潜在可能减到最小。

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